10月22日，武漢國創科光電裝備有限公司（下文簡稱“國創科”）宣布，公司自主開發的G6全尺寸新型顯示噴墨打印成套裝備主體完成組裝。
圖片來源：國創科
據介紹，該G6全尺寸新型顯示噴印裝備，適配基板尺寸為1850mm × 1500mm(且載臺可同時兼容G5.5 (1500mm × 1300mm)、G8.6H( 2290mm × 1310mm)基板)，是面向新型顯示關鍵功能層高效量產印刷制備而研制的高端裝備。
該裝備可以通過精確控制上億滴墨滴的噴射與基板的精密運動配合，實現巨量液滴的微米級精確打印，在約3平方米的基板上，打印出液滴間隔只有幾十微米的精密圖案與均勻膜層，從而滿足高世代產線的量產需求。
資料顯示，國創科成立于2020年，專注于開發OLED、QLED、Micro-LED、E-paper等相關顯示器件噴印制造成套創新工藝、技術與裝備，由TCL科技集團、華中科技大學、國家數字化設計與制造創新中心等單位共同組建。其中，深圳市TCL高新技術開發有限公司（TCL科技集團的全資子公司），持有國創科23.6315%股份。
目前，國創科已規劃N1、N2、N3等三座制造基地，N1和N2廠房位于武漢東湖高新區光谷智能制造產業園，N3廠房位于佛山市南海區平謙智慧產業園。
2024年12月，國創科噴墨打印制造裝備項目二期簽約落戶武漢光谷。國創科表示，公司將以該項目二期為契機，在未來五年內投資5億元擴大光谷已有的G4.5和G6H（半尺寸）裝備產能，重點研發G6（全尺寸）及8.X代噴印裝備，滿足客戶擴張6代OLED產能及布局高世代OLED產線需要。
步入2025年，國創科先后完成了G2.5型Micro-LED高精度EHD修復設備、E/P型復合噴印裝備的交付。
其中，經Micro-LED高精度修復設備修復打印后的LED轉移成功率可達100%；E/P型裝備則為半導體器件結構制造開發的多功能復合裝備，既可完成常規半導體功能層噴印也可實現高分辨率微納結構或超薄膜層制備。（國創科）
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