由瑞士萬通黃金贊助的第四屆半導體濕電子化學品與電子氣體論壇將于4月26日在杭州召開
濕電子化學品與電子氣體論壇現向晶圓及面板制造企業開放免費名額，詳情請見后文
3月31日， 河南東微電子材料有限公司半導體芯片材料塔山計劃項目開工儀式在鄭州市航空港區舉行。
河南東微電子材料有限公司消息顯示，該項目總投資約25億元，占地198畝，總建筑面積約20萬平方米，主要打造含廠房、宿舍等配套完善的集成電路中小微產業園。其中，一期項目用地50余畝。
據悉，該項目建成后，主要生產爐管等集成電路制造用核心設備關鍵零部件和材料以及金、銀、鉑等高純貴金屬靶材，實現相關產品國產化，全部投產后每年可生產各類貴金屬靶材3000余片，集成電路制造用爐管等設備100臺。
河南東微電子材料有限公司官方消息顯示，河南東微電子材料有限公司2018年落戶河南省鄭州市航空港實驗區，并在上海、北京等地設有研發生產基地，致力于成為高端集成電路制造用材料和設備零部件一站式服務平臺，業務由半導體核心材料、半導體設備、核心零部件三大板塊組成，生產銷售產品有濺射靶材、反應腔體、其他半導體零部件等。
來源：國際電子商情
晶圓制造是當今工業制造皇冠上的明珠，高純度濕電子化學品是晶圓制造過程中清洗、光刻、蝕刻等工藝流程的必備材料，也應用于后端的封裝測試環節。SEMI預計2022年中國半導體用濕電子化學品市場規模為4.28億美元，同比增長14.13%。
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電子氣體是半導體制造、顯示制造等產業的主要耗材之一，是中國戰略性新興產業發展中必不可少的關鍵支持材料。近年來中國本土氣體企業如派瑞特氣、華特氣體、南大光電等的部分產品已經進入國內外先進晶圓廠中。SEMI預計2022年國內電子氣體市場規模可達11.13億美元，同比增長14.15%。
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未來三年將是中國半導體制造產業高速發展期，中芯國際、華虹宏力、長江存儲、長鑫存儲等企業加速擴產，格科微、鼎泰匠芯、華潤微等企業布局的多條8/12英寸晶圓生產線也將陸續投產，這將帶動國內高于全球濕電子化學品與電子氣體的需求增速。半導體電子化學品及氣體將迎來空前發展機遇。
此外，清洗與拋光、濕法刻蝕及光刻顯影、去膠等步驟需要濕法制程設備。以半導體清洗設備為例，根據亞化咨詢預測，2025年全球市場將達近41億美元，此外，清洗設備的國產化率僅在20%左右。未來國內濕制程設備將迎來廣闊機遇。
由瑞士萬通黃金贊助的第四屆半導體濕電子化學品與電子氣體論壇2023將于4月26日在杭州召開。會議由亞化咨詢主辦，多家國內外龍頭企業重點參與。
會議主題
半導體光刻功能性濕化學品及氣體
半導體清洗劑的現狀及替代品
半導體CMP拋光研磨液
含硅特種氣體及其前驅體
半導體用大宗氣體市場情況
半導體用干刻、清洗氣體
電子級氫氟酸的純化技術及技術發展
半導體級雙氧水、硫酸在先進晶圓廠中的應用
半導體封裝用電鍍液市場及發展
清洗設備、涂膠顯影設備與技術
濕法刻蝕設備的發展與國內技術
濕法制程與濕電子化學品的配套
最新會議日程如下：
會議日程 |
電子級超純氨/氧化亞氮的生產及應用（題目暫定） ——蘇州金宏氣體股份有限公司（已定） |
PFA熱模壓精餾塔在濕電子化學品的應用 ——河南聚氟興新材料科技有限公司（已定） |
濕電子化學品檢測整體解決方案 ——賽默飛世爾科技公司（已定） |
電子級硫酸的生產工藝及應用（題目暫定） ——聯仕（昆山）化學材料有限公司（已定） |
離子色譜在高純試劑檢測方面的技術進展介紹 ——Metrohm瑞士萬通中國有限公司（已定） |
泛半導體清洗設備介紹（題目暫定） ——北京華林嘉業科技有限公司（已定） |
全球半導體電子化學品需求及行業發展 ——Linx Consulting（已定） |
電子級氨水、雙氧水在先進晶圓廠中的應用（題目暫定） ——蘇州晶瑞化學股份有限公司（已定） |
TOPCon電池大產能濕法設備的技術及應用 ——蘇州晶洲裝備科技有限公司（已定） |
國內晶圓廠濕電子化學品需求展望 ——亞化咨詢（已定） |
半導體用高純NF3及SF6的市場及應用 ——中船重工（邯鄲）派瑞特種氣體有限公司（邀請中） |
半導體電鍍液、清洗液工藝及應用 ——上海新陽半導體材料股份有限公司（邀請中） |
半導體級氫類特氣介紹及應用 ——全椒南大光電材料有限公司（邀請中） |
電子級氫氟酸、雙氧水的用量需求及行業發展 ——索爾維藍天（衢州）化學品有限公司（邀請中） |
*以上演講報告列表將隨著會議邀請工作進展不斷更新，最終版以會場發布為準。
濕電子化學品與電子氣體會議現向晶圓及面板制造企業開放免費名額，每家企業限2位代表，額滿即止，歡迎報名。
根據應用領域，光刻膠可分為半導體光刻膠、面板光刻膠與PCB光刻膠。以半導體行業為例，光刻膠又可細分為g線、i線、KrF、ArF、EUV等。光刻是半導體制造中最核心的工藝，成本約占整個芯片制造的35%。光刻膠與掩模版是光刻工藝的核心材料。目前中國光刻膠及上游原材料、掩模版市場分別被信越化學、JSR、住友化學、Photronics等國外企業所主導，國產化率較低。國內企業僅實現少量量產，多處于研發及下游認證階段。
2026年全球光刻膠市場總規模將超過120億美元，預計2030年國內空白掩模版需求規模有望達到11.5億美元。2021年中國半導體材料銷售額近120億美元，同比增長22%，且隨著國內晶圓廠的持續建設，光刻膠/掩模版需求增速均高于全球。
同時，近年來美方對國內半導體行業制裁不斷升級，引起對上游安全可控的重視。在政策和市場需求的雙重驅動下，光刻膠與光掩模將加速國產化進程，進口替代前景廣闊。參與企業將面臨空前的發展機遇。然而材料、技術與設備的競爭力也將面臨挑戰。
第2屆光刻膠與掩模版研討會2023將于5月18日在蘇州召開。會議由亞化咨詢主辦，多家國內外企業重點支持和參與，將對光刻膠和掩模版技術與市場等議題展開深入研討。
會議主題
光刻膠與掩模版的產業政策與市場
半導體行業趨勢與光刻膠/掩模版需求
光刻膠與掩模版的項目投資機遇
中國半導體光刻膠技術進展：g線、i線、KrF、ArF、EUV
半導體光刻技術——DUV、浸沒式、多重曝光、EUV、新技術
面板光刻膠與PCB光刻膠市場與技術升級
光刻膠關鍵原料（樹脂、光引發劑等）合成工藝
國際先進光刻膠、助劑、掩模版技術與應用
光掩模版技術進展與市場趨勢
光刻氣、光刻源、光刻機設備及零部件
光刻配套——涂膠顯影、光刻膠剝離、檢測等
光刻材料與先進封裝
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中國大陸12英寸晶圓廠項目表（月度更新）
中國大陸半導體封測項目表（月度更新）
中國大陸電子特氣項目表（月度更新）
中國大陸半導體濕電子化學品項目表（月度更新）
中國大陸晶圓廠當月設備中標數據表（月度更新）
中國大陸上月半導體前道設備進口數據表（月度更新）
中國大陸半導體大硅片項目地圖（月度更新）
中國大陸8英寸晶圓廠項目地圖（月度更新）
中國大陸12英寸晶圓廠項目地圖（月度更新）
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