12月8日，據(jù)上交所披露公告稱，深圳市龍圖光罩股份有限公司（簡稱：龍圖光罩）將于12月15日科創(chuàng)板首發(fā)上會。
龍圖光罩主營業(yè)務(wù)為半導(dǎo)體掩模版的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，是國內(nèi)稀缺的獨立第三方半導(dǎo)體掩模版廠商。公司緊跟國內(nèi)特色工藝半導(dǎo)體發(fā)展路線，不斷進(jìn)行技術(shù)攻關(guān)和產(chǎn)品迭代，半導(dǎo)體掩模版對應(yīng)下游半導(dǎo)體產(chǎn)品的工藝節(jié)點從 1μm 逐步提升至 130nm1，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于功率半導(dǎo)體、MEMS 傳感器、IC 封裝、模擬 IC 等特色工藝半導(dǎo)體領(lǐng)域，終端應(yīng)用涵蓋新能源、光伏發(fā)電、汽車電子、工業(yè)控制、無線通信、物聯(lián)網(wǎng)、消費電子等場景。
目前，龍圖光罩已掌握 130nm 及以上節(jié)點半導(dǎo)體掩模版制作的關(guān)鍵技術(shù)，形成涵蓋CAM、光刻、檢測全流程的核心技術(shù)體系。在功率半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域，公司工藝節(jié)點已覆蓋全球功率半導(dǎo)體主流制程的需求。
龍圖光罩稱，公司以特色工藝半導(dǎo)體市場為切入點，緊扣國內(nèi)半導(dǎo)體廠商的發(fā)展需求，不斷提升掩模版工藝技術(shù)水平和客制化服務(wù)能力，逐步進(jìn)入國內(nèi)多個大型特色工藝晶圓廠供應(yīng)商名錄，一定程度上推動了我國半導(dǎo)體掩模版產(chǎn)業(yè)的國產(chǎn)化。
來源：集微網(wǎng)
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