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1、不知道有沒(méi)有朋友發(fā)現(xiàn)PMOS比NMOS導(dǎo)通電阻大?
如下面這兩個(gè)型號(hào):
1)SI2301DS/PMOS/SOT-23

2)SI2302DS/NMOS/SOT-23

這兩個(gè)型號(hào)制作工藝差不多,但是明顯NMOS比PMOS導(dǎo)通電阻小,導(dǎo)通電阻小流過(guò)相同電流時(shí)發(fā)熱量小,因此NMOS最大電流比PMOS要大一些,見(jiàn)上圖。那么為什么NMOS的導(dǎo)通電阻小呢?下面詳細(xì)介紹一下。
2、先來(lái)說(shuō)一下半導(dǎo)體:
1)硅單質(zhì)
我們都知道硅原子的最外層電子有4個(gè)電子,如下圖所示,硅原子之間互相共享4個(gè)電子,形成了四個(gè)共價(jià)鍵,形成一種穩(wěn)定結(jié)構(gòu)。

2)P(positive)型半導(dǎo)體
把硼等3價(jià)元素作為雜質(zhì)摻入硅單質(zhì)中,這種混合體就叫P型半導(dǎo)體,硼原子最外層有3個(gè)電子,和硅原子混合后,會(huì)有“空穴”產(chǎn)生,空穴能夠承載電子,這種空穴被稱作載流子,因此這種P型半導(dǎo)體是能夠?qū)щ姷摹?/span>

空穴在電場(chǎng)作用下運(yùn)動(dòng)方式:

3)N(negative)型半導(dǎo)體
把磷等5價(jià)元素作為雜質(zhì)摻入硅單質(zhì)中,這種混合體就叫N型半導(dǎo)體,磷原子最外層有5個(gè)電子,和硅原子混合后,會(huì)有多余的自由電子剩余,多余的自由電子也被稱作載流子,因此這種N型半導(dǎo)體也是能夠?qū)щ姷摹?/span>

電子在電場(chǎng)作用下運(yùn)動(dòng)方式:

3、PMOS比NMOS導(dǎo)通電阻大的原因
電子導(dǎo)電很好理解,但是空穴導(dǎo)電很多人就蒙圈了,我們經(jīng)??吹降恼f(shuō)法是,空穴本身不是粒子不導(dǎo)電,空穴導(dǎo)電的原因是電子的反向移動(dòng),其實(shí)這么說(shuō)有些牽強(qiáng),并不能完全那么等效。N型半導(dǎo)體富含電子,且電子在共價(jià)鍵之外,施加外部電場(chǎng)后電子在電場(chǎng)力的作用下定向移動(dòng),電子移動(dòng)不受共價(jià)鍵束縛。P型半導(dǎo)體富含空穴,電子在P型半導(dǎo)體內(nèi)部流動(dòng)時(shí)一旦落入空穴中,空穴正好在共價(jià)鍵上,進(jìn)入空穴的電子如果要脫離空穴,需要擺脫共價(jià)鍵的束縛,必須克服共價(jià)鍵的束縛力做功,因此在P型半導(dǎo)體中電子遷移率低一些,需要施加更強(qiáng)的電場(chǎng)才能實(shí)現(xiàn)像N型半導(dǎo)體電子的遷移率,如果不改變電場(chǎng)強(qiáng)度,則需要增加P型半導(dǎo)體的面積提高導(dǎo)電能力。
綜上所述,遷移率低是PMOS管導(dǎo)通電阻大的主要原因。
4、介紹一下半導(dǎo)體的遷移率與摻雜濃度的關(guān)系
虛線為N型半導(dǎo)體,實(shí)線為P型半導(dǎo)體,由此可見(jiàn)相同摻雜濃度下,N型半導(dǎo)體的遷移率高于P型半導(dǎo)體,也就是說(shuō)在相同條件下,N型半導(dǎo)體導(dǎo)電能力強(qiáng)。

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