第六屆半導體大硅片論壇將于12月7-8日在上海召開，將參觀新昇半導體（上海硅產業集團）與超硅半導體，詳見后文
日本半導體設備大廠佳能日前宣布推出采用納米壓印 (Nano-imprint Lithography，NIL) 技術的光刻設備FPA-1200NZ2C。佳能表示納米壓印光刻設備可用來生產最先進的5納米存儲器芯片，期望改良后可以進一步用于生產2納米的產品，試圖挑戰半導體設備龍頭廠ASML的地位。
目前全球前三大光刻機設備制造商分別為:日本的佳能、尼康和荷蘭的ASML。佳能、尼康都是百年老牌相機制造商，ASML 則于1984成立，卻后發制人，是全球唯一能量產EUV(極紫外光)光亥技術的設備廠商。EUV 光刻機是半導體先進制程5納米以下不可或缺的關鍵設備。
2022 年前三大光刻機設備廠共出貨551 臺，總營收196億美元。ASML賣出345臺，光刻營收為161億美元; 佳能售出176臺，營收20億美元; 尼康則售出30臺，營收為15億美元。
納米壓印與封蠟印章的原理類似，先在表面涂布光阻劑，再用做好的光罩模具壓下，可以做出想要的圖案。因為納米壓印的模具能夠重復壓印，適用于大量制作光盤、芯片及太陽能電池內的微細結構。佳能為納米壓印微影技術研發出最佳的光阻劑材料，以及用于壓印的納米級對準技術，還實現清潔半導體的微粒控制技術，相較于已商用化的EUV技術，NIL技術的耗電量只需EUV的十分之一，金額只需EUV的40%，大幅減少耗能，并降低設備成本。
由于納米壓印微影技術需要使用軟性材質的光阻劑材料，適合使用在規則性結構如DRAM 與NAND FLASH，而邏輯芯片只有少部分的結構可以使用，故納米壓印技術仍無法完全取代 EUV光刻技術。
臺積電是全球最大的晶圓代工廠，在半導體制造領域具有領先地位，使用納米壓印技術來降低晶圓制造的成本，對晶圓廠是一大利多。聯電在成熟制程尤其14納米維持領導地位，是 納米壓印技術的直接受益者。光罩是全球最大的掩膜制造商，納米壓印微影技術需要使用專用的光罩，將有機會受惠。總而言之，EUV 技術目前仍是先進制程的唯一選擇，但納米壓印技術具有成本低、減少碳排放的優勢，若能在一定良率下成功開發量產，有望在未來成為 EUV 技術的替代方案。
來源：集微網
2012年到2022年，全球半導體硅片出貨面積穩定增長，2022年全球硅片出貨面積達147.13億平方英寸，市場規模高達138.31億美元，在半導體材料中占據最大份額。硅片行業高度集中，5大廠商（信越、Sumco、Siltronic、環球晶圓、SK Siltron）市場份額接近90%。
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受益于產業鏈轉移及上升周期，2022年中國國內半導體材料市場規模近130億美元，位居全球第二，同比增長7.3%。國內代表性企業滬硅產業、立昂微、中環、中欣晶圓、奕斯偉、超硅等紛紛擴充8英寸與12英寸硅片產能。2023年上半年，受行業周期下行影響，半導體硅片出貨同比有所下滑。隨著國內晶圓廠持續擴產，長期來看半導體硅片需求仍能保持增長。
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自動駕駛、AI等新興產業將給半導體及大硅片帶來哪些機遇？全球經濟的不確定性，如何影響半導體硅片需求變化？美國制裁對國內半導體產業及硅片將有哪些影響？企業該如何未雨綢繆，應對新一輪的機遇與挑戰？
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第六屆半導體大硅片論壇將于2023年12月7-8日在上海召開。會議由亞化咨詢主辦，多家領先大硅片企業和相關材料、設備商參與。重點探討新形勢下全球與中國半導體大硅片市場格局，大硅片項目規劃與建設進展，供需與價格趨勢，制造技術與關鍵材料、設備，以及電子級多晶硅最新進展等議題。將參觀新昇半導體（上海硅產業集團）等企業。
會議主題包括但不限于
新形勢下中國集成電路與大硅片產業發展趨勢
半導體行業市場對不同尺寸硅片需求
新一輪制裁對大硅片供應鏈的影響
中國大硅片最新項目規劃與建設進展
已建成大硅片工廠生產運營經驗
大硅片制造先進設備需求及國產化情況
電子級多晶硅項目規劃與現狀
硅外延片的市場供需及應用
單晶硅與大硅片先進制造工藝與技術
硅片摻雜技術與細分下游需求
特色工藝用硅片生長技術
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