近日，ALD鍍膜及離子注入等半導體設備商：思銳智能完成數億元C輪融資。本輪融資由國開制造業轉型升級基金、中國國有企業結構調整基金（領投），招銀國際、中銀資產、光谷金控多家投資機構共同參與。
關于思銳智能青島思銳智能科技股份有限公司（簡稱：思銳智能）成立于2018年，總部位于中國青島，并在北京、上海設有研發中心。思銳智能主要聚焦關鍵半導體前道工藝設備的研發、生產和銷售，提供具有自主可控的核心關鍵技術的系統裝備產品和技術服務方案。公司產品包括原子層沉積（ALD）設備及離子注入（IMP）設備，廣泛應用于集成電路、第三代半導體、新能源、光學、零部件鍍膜等諸多高精尖領域。
思銳智能在離子注入機領域取得了標志性突破。2023年，公司成功研發并生產了全國首臺8MeV高能離子注入機，該設備已獲得國內頭部客戶驗證，技術指標對標國際先進水平，打破了歐美企業的長期壟斷，填補了國內空白。目前，思銳智能已完成包括高能、大束流、中束流及SiC離子注入機在內的全系列離子注入機型的布局和量產，產品廣泛應用于CIS、存儲、射頻等高端芯片制造領域。
公司在推進ALD業務轉型升級后，布局離子注入設備業務并取得突破。思銳智能以高能離子注入機為切入點開展研發，解決國內高端離子注入機”卡脖子“問題，逐步完成硅基及化合物半導體領域全系列機型的布局。
思銳智能獲評了國家級專精特新“小巨人”稱號并承擔多項省市級重點研發計劃和國際合作項目。依托半導體先進裝備研發制造中心，公司已成為擁有全球客戶拓展能力的中高端半導體裝備生產制造商，業務范圍覆蓋全球40個國家及地區，累計超過500個全球客戶。
2018年，公司完成對ALD技術發源地——芬蘭倍耐克公司100%股權的收購工作。思銳智能整合倍耐克海外前沿技術研發資源，開展ALD技術國內外聯合研發與國內產業化落地工作，建立了完善的ALD產品體系，覆蓋全球眾多頭部客戶并在眾多細分領域取得領先的市場競爭地位。
目前思銳智能及其子公司擁有300余項相關專利，在ALD技術及應用方面具備雄厚的技術積累。
