超過臺(tái)積電！馬斯克正式宣布建造世界最大晶圓工廠

—會(huì)議背景—

隨著半導(dǎo)體工藝節(jié)點(diǎn)向2nm及以下推進(jìn)，下一代光刻技術(shù)已成為行業(yè)焦點(diǎn)。主要方向包括高數(shù)值孔徑極紫外（High-NA EUV）光刻、納米壓印光刻、電子束光刻、定向自組裝（DSA）和X射線光刻等。這些技術(shù)旨在提升分辨率、降低成本并提高產(chǎn)量。2026年，高NA EUV已進(jìn)入高容量制造階段，而NIL和X射線光刻作為潛在顛覆者，正加速研發(fā)。

進(jìn)入2026年，中國對(duì)高端光掩模的需求持續(xù)強(qiáng)勁增長，但技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)能力及產(chǎn)業(yè)鏈整合方面仍面臨高成本、技術(shù)復(fù)雜性和供應(yīng)鏈依賴等諸多挑戰(zhàn)。全球半導(dǎo)體光掩模版市場在2018年至2024年間從40.4億美元增長至51億美元，年復(fù)合增長率達(dá)4.0%。預(yù)計(jì)到2030年，該市場規(guī)模將進(jìn)一步擴(kuò)大至約80億美元。亞化咨詢研究認(rèn)為我國2025年第三方掩模版市場規(guī)模占比為70%左右，預(yù)計(jì)2030年中國掩模版市場規(guī)模有望達(dá)到120億元。

全球光掩模版市場主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企業(yè)主導(dǎo)，市場占有率超過70%。而在中國市場，路維光電、清溢光電、龍圖光罩等本土企業(yè)正在不斷提升其市場競爭力，并在國產(chǎn)化替代方面取得突破。

亞化咨詢預(yù)計(jì)2026年市場規(guī)模有望達(dá)到100億元。在ArF光刻膠領(lǐng)域，國內(nèi)廠商正在加快研發(fā)進(jìn)程，并取得了核心突破，如南大光電實(shí)現(xiàn)ArF光刻膠量產(chǎn)。國內(nèi)一些光刻膠龍頭企業(yè)如上海新陽、南大光電、容大感光、廣信材料、晶瑞電材等，在光刻膠的研發(fā)和生產(chǎn)方面取得了顯著進(jìn)展。據(jù)亞化咨詢最新行業(yè)調(diào)研，國內(nèi)領(lǐng)先的光刻膠新銳企業(yè)還包括珠海基石(2022年成立)、國科天驥(2019年成立)等。國內(nèi)光掩模與光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展正在提速，技術(shù)進(jìn)步成為產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要推動(dòng)力。

第3屆光掩模與光刻膠技術(shù)論壇將于2026年4月24日在上海召開。本次論壇由亞化咨詢主辦。此次會(huì)議將匯聚行業(yè)的領(lǐng)軍企業(yè)、機(jī)構(gòu)的專家，探討下一代光刻技術(shù)發(fā)展方向，中國光掩模版與光刻膠產(chǎn)業(yè)的技術(shù)進(jìn)展與應(yīng)用，市場機(jī)遇與挑戰(zhàn)，和產(chǎn)業(yè)發(fā)展前景。