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今日熱點
芯三代半導體科技(蘇州)有限公司投資公司德觀資本在官微宣布芯三代完成C輪投資。其他參與本輪投資的還有江蘇省產業技術研究院、渾璞投資和海通證券等旗下基金。該輪融資已成為芯三代在本年度內完成的第四輪融資。

碳化硅外延市場擴產 “火熱”
在碳化硅晶體生長和晶片加工過程中,會不可避免地在表面或近表面引入缺陷,導致襯底的體材料質量和表面質量都不夠好,直接用其制得器件的性能較差。外延層的生長可以消除許多缺陷,使晶格排列整齊,表面形貌較襯底大為改觀。這樣的外延片用于制造功率器件,可以極大提高器件的參數穩定性和良率。
外延工藝是整個碳化硅產業中的非常關鍵的一環,所有的器件基本上都是在外延上實現,所以外延的質量對器件的性能是影響非常大,同時外延的質量又受到晶體和襯底加工的影響,所以外延環節在碳化硅產業鏈中承上啟下,對產業發展起到非常關鍵的作用。
受益于碳化硅下游市場需求逐步放大,國內多個碳化硅外延項目發布了擴產和新建開工的計劃:

水平單片/多片機臺與垂直機臺之爭

(a)熱壁水平臥式;(b) 溫壁行星式;(c) 準熱壁立式
熱壁水平式CVD系統:一般為氣浮驅動旋轉的單片大尺寸生長系統 ,易 實 現 較 好 的 片 內 指 標 ,代表性機型為意大利LPE公司的Pe1O6,該機臺可以實 現 900℃ 高 溫 自 動 裝 取 片 ,主 要 特 點 是 生 長 速 率 高 、外延周期短 、片內及爐次間一致性好等 ,在國內市場占有率最高。



8英寸機臺推出進度之爭
碳化硅降本勢在必行,相比于6英寸,8英寸碳化硅晶圓的邊緣損耗更小、可利用面積更大,未來通過產量和規模效益的提升,成本有望降低60%以上。8英寸的碳化硅襯底和外延材料量產已呼之欲出,配套設備推進的進度決定了8英寸材料的量產時間,所以今年來,各大設備公司推出8英寸相關的信息頻繁出現。


國內市場,日前,晶盛機電發布消息稱公司已成功研發出具有國際先進水平的8英寸單片式碳化硅外延生長設備。

據悉,該8英寸單片式碳化硅外延設備可兼容6、8寸碳化硅外延生產,在6英寸外延設備原有的溫度高精度閉環控制、工藝氣體精確分流控制等技術基礎上,解決了腔體設計中的溫場均勻性、流場均勻性等控制難題,實現了成熟穩定的8英寸碳化硅外延工藝。目前,在子公司晶瑞的8英寸襯底基礎上,已實現8英寸單片式碳化硅外延生長設備的自主研發與調試,外延的厚度均勻性1.5%以內、摻雜均勻性4%以內,已達到行業領先水平。


工藝結果


8英寸外延片
那些新入局的“玩家”
長城旗下精工自動化將建SiC外延設備項目

碳化硅外延廠房改造設計項目位于保定市徐水經濟技術開發區,建筑面積約5633m2,主要改造包括生產廠房內辦公區、潔凈間、液氮、液氬氣站、氫氣站、特氣間、尾氣處理間、危化品庫、純水間、消防等。據調研,該公司此前為汽車零部件制造公司,本次產線改造后將建成碳化硅外延設備制造產線。
「中科匯珠」粵升子公司成功研發碳化硅外延設備
今年5月消息,粵升公司自主研發的4/6吋SiC外延設備,已無故障連續穩定運行近300小時,生長的4/6吋SiC外延片質量均達到國際先進水平,滿足MOSFET和SBD器件的制備要求。粵升SiC外延設備的成功研制,意味著國產SiC外延設備又添新的主力軍。

漢印機電新增碳化硅外延設備和外延項目
5月22日,鹽城市鹽都區人民政府報道提到,漢印機電2022年投資了10億元,啟動漢印半導體裝備項目,新上40臺(套)第三代半導體碳外延設備,可年產20萬片碳化硅外延片。漢印機電與中科院半導體所、清華大學化工學院等多家高校深入產學研合作,開展了產業化的SiC設備開發等一系列規劃。

由上文梳理,可以發現碳化硅外延廠商在產業擴張的大形勢下均在大幅提升產能。碳化硅外延設備環節市場“蛋糕”不斷增大,隨著新入局的玩家增多,機臺結構逐步優化,在生長速率,COO成本、設備穩定性、維護便利性和可靠性等方面穩步提升,以及大尺寸設備的開發推進,國產替代步伐加快,碳化硅外延環節的降本指日可待!
我們和業內人士的調研中,行業人士指出,新一輪碳化硅外延投擴產產生的設備采購需求紅利或將持續1-3年。這意味著在未來3年內碳化硅外延設備需求將持續增長,設備企業將迎來增長機遇。但企業需要在這一輪周期中,鍛造大規模交付能力、強大的創新研發能力、優秀的成本管控能力,才有可能進入主流市場。
素材來源:芯路說《SiC外延設備爐不同設計淺談》、晶盛機電官微、芯三代官微
*免責聲明:本文由作者原創。文章內容系作者個人觀點,碳化硅芯觀察轉載僅為了傳達觀點,僅代表碳化硅芯觀察對該觀點贊同或支持,如果有任何異議,歡迎聯系碳化硅芯觀察。