作者 | 黃修眉
中微公司今日（1月23日）晚間公告稱，公司預計2025年度營收約為123.85億元，較2024年增加約33.19億元，同比增長約36.62%；預計2025年度實現歸母凈利潤為20.80億元至21.80億元，同比增長約28.74%至34.93%。
其中，該公司2025年刻蝕設備銷售約98.32億元，同比增長約35.12%；LPCVD和ALD等半導體薄膜設備收入5.06億元，同比增長約224.23%。
由此計算，中微公司預計2025年第四單季度營收為43.22億元，環比增長39.3%；歸母凈利潤為8.69億元-9.69億元，環比增長71%-91%，以最低值8.69億元計算，創其單季度歷史新高。其2025年第四季度的凈利潤分析師一致預測是9.93億元。
2025年全年，該公司研發投入約37.36億元，較2024年增長12.83億元，同比增長52.32%，研發投入占公司營收比例約為30.16%。
針對業績增長的原因，中微公司在公告中表示，公司等離子體刻蝕設備在國內外持續獲得更多客戶的認可，針對先進邏輯和存儲器件制造中關鍵刻蝕工藝的高端產品新增付運量顯著提升，先進邏輯器件中段關鍵刻蝕工藝和先進存儲器件超高深寬比刻蝕工藝實現量產。
具體到已有產品市場上，中微公司表示，CCP方面，公司用于關鍵刻蝕工藝的單反應臺介質刻蝕產品保持高速增長，能夠全面覆蓋存儲器刻蝕應用中各類超高深寬比需求；ICP方面，適用于下一代邏輯和存儲客戶用ICP刻蝕設備和化學氣相刻蝕設備開發取得了良好進展，加工的精度和重復性已達到單原子水平。到2025年底，刻蝕設備反應臺全球累計出貨超過6800臺。
值得一提的是，中微公司近兩年新開發出十多種導體和介質薄膜設備，目前已有多款新型設備產品進入市場，其中部分設備已獲得重復性訂單。
其中，LPCVD設備累計出貨量突破三百個反應臺，其他多個關鍵薄膜沉積設備研發項目正在順利推進；公司EPI設備已順利進入客戶端量產驗證階段，該種設備同時也付運至先進制程客戶進行驗證，部分先進工藝已進入量產驗證階段；公司幾款MOCVD新產品進入客戶端驗證階段；新型八寸碳化硅外延設備、新型紅黃光LED應用的設備已付運至國內領先客戶開展驗證；
其新一代高選擇比預清潔腔體滿足先進工藝的需求，已在客戶端進行量產驗證；常壓外延設備現已完成開發，進入工藝驗證階段；在泛半導體設備領域，公司正在開發更多化合物半導體外延設備，已陸續付運至客戶端進行驗證。
此外，中微公司在南昌約14萬平方米的生產和研發基地、上海臨港的約18萬平方米的生產和研發基地已經投入使用，保障了公司銷售快速增長。
