【今日快訊】工信部官宣！我國正式突破7nm光刻技術！

工信部官網發布新版《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄》，正式官宣我國光刻技術小于等于8nm，也就是7nm獲得了全面量產。

近日，工業和信息化部正式發布了《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》（以下簡稱《指導目錄》），這一舉措旨在推動我國重大技術裝備的創新發展和推廣應用，同時加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同效應。

《指導目錄》的發布對我國高端制造業的發展具有重要意義。其中，特別引人注目的是電子專用裝備目錄下的"集成電路生產裝備"類別。該類別明確列出了氟化氬光刻機，并對其技術參數做出了具體要求：光源為193納米，分辨率不大于65納米，套刻精度不大于8納米。這一指標的提出，彰顯了我國在半導體制造領域追求技術突破的決心。

回顧今年4月，市場監管總局等五部門聯合印發的《中國首臺(套)重大技術裝備檢測評定管理辦法(試行)》中就明確指出，重大技術裝備是國之重器，與國家綜合實力和安全息息相關。該文件對中國首臺(套)重大技術裝備做出了明確定義：指在國內實現重大技術突破、擁有自主知識產權，但尚未在市場上取得明顯業績的裝備產品，包括整機設備、核心系統和關鍵零部件等。

此次《指導目錄》的發布，正是對上述管理辦法的具體落實。通過明確列出各領域的重點裝備及其技術指標，為企業、科研機構提供了清晰的技術發展方向，也為相關支持政策的制定和實施提供了重要參考。

值得注意的是，《指導目錄》中提到的氟化氬光刻機，代表了當前全球半導體制造領域的尖端技術。光刻機被譽為"芯片之母"，是集成電路制造中最為關鍵的設備之一。能夠生產出如此高精度的光刻機，意味著我國在半導體制造裝備領域已經取得了重大突破，為未來實現高端芯片的自主可控奠定了堅實基礎。

這一目錄的發布，不僅僅是一份簡單的技術指標清單，更體現了我國在高端制造業領域的戰略布局。通過鼓勵和支持首臺(套)重大技術裝備的研發和應用，我國旨在加速關鍵核心技術的突破，推動產業鏈向高端化、智能化方向發展，最終實現制造強國的宏偉目標。

同時，《指導目錄》的發布也為相關企業指明了發展方向。那些致力于高端裝備研發的企業，可以根據目錄中的具體指標，有的放矢地開展技術攻關，并有望獲得更多的政策支持和市場機會。這無疑將激發企業的創新活力，推動整個行業的技術進步。

此外，《指導目錄》的實施還將促進產學研深度融合。高校和科研院所可以根據目錄中的技術需求，開展針對性的基礎研究和應用研究，為企業的技術創新提供強有力的支撐。這種產學研協同創新的模式，將加速科技成果的轉化，提升我國整體的科技創新能力。