全球首臺！中微公司Primo Menova?12寸金屬刻蝕設備順利付運

中微公司的12英寸ICP單腔刻蝕設備 Primo Menova?專注于金屬刻蝕，尤其擅長于金屬Al線、Al塊的刻蝕，可廣泛應用于功率半導體、存儲器件和先進邏輯芯片的制造，是晶圓廠金屬化工藝主要設備之一。Primo Menova?基于中微量產的ICP刻蝕產品Primo Nanova?研發制造，秉承了優異的刻蝕均一性控制，可達到高速率、高選擇比及低底層介質損傷等刻蝕性能。Primo Menova?搭配高效率腔體清潔工藝，可減少腔室污染，延長腔體持續運行時間。Primo Menova?系統還集成了配備高溫水蒸氣的除膠腔室(strip chamber)，高效去除金屬刻蝕后晶圓表面殘留光刻膠及副產物。Primo Menova?和除膠腔體可根據客戶工藝需求靈活搭配，最大程度滿足客戶高生產效率的要求，確保機臺在高負荷生產中的穩定性與良率。

中微公司始終站在先進制程工藝發展的最前沿，與國際領先的半導體客戶公司同步前行，公司的等離子體刻蝕設備已應用在國際一線客戶從65納米到14納米、7納米和5納米及其他先進的集成電路加工制造生產線及先進存儲、先進封裝生產線。公司的CCP電容性高能等離子體刻蝕機和ICP電感性低能等離子體刻蝕機可覆蓋國內95%以上的刻蝕應用需求，在性能優秀、穩定性高等方面滿足了客戶先進制程中各類嚴苛要求。截至2024年年底，公司累計已有超過6000臺等離子體刻蝕和化學薄膜設備的反應臺，在國內外137條生產線實現量產和大規模重復性銷售。