背景
根據行業數據顯示，盡管中國已成為全球最大的電子消費與制造市場，但在MEMS這一賽道上，歐美日廠商仍占據主導地位。目前的行業圖景呈現出鮮明的對比：一方面，全球MEMS市場規模持續攀升，預計到2028年將突破200億美元；另一方面，中國大陸雖然擁有廣闊的應用場景，但制造端的產值占比不足全球的3%。
更深層的危機在于：在MEMS、紅外傳感、硅光通信等前沿領域，支撐高性能器件生產的核心工藝設備，長期處于“中國廠商覆蓋空白”的狀態。
當下，國產半導體設備廠家正逐步實現從技術跟隨到自主創新的跨越，隨著人才的積淀、技術的不斷迭代，在關鍵細分工藝領域，正加速跑出一批具備技術優勢的國產設備廠家。
中國半導體行業協會MEMS（微機電系統）分會走進江灣世紀，有幸專訪江灣世紀（蘇州）半導體科技有限公司聯合創始人張德林，就公司成立初衷與行業定位，進行深入淺出的溝通，共同探討如何通過設備創新補齊半導體設備產業鏈。
Q1
公司成立的初衷是什么？在當時的行業環境下，你們看到了哪些刻不容緩的問題？
A
江灣世紀： 我們成立的初衷非常明確：解決中國MEMS產業鏈的“斷點”問題。
長期以來，國內MEMS領域存在嚴重的“設計與制造脫節”。很多優秀的設計公司受限于國內Fab廠的工藝能力，不得不去海外代工；而國內Fab廠又受制于核心設備的缺乏。特別是在MEMS、紅外和硅光等高增長領域，關鍵的刻蝕和沉積設備幾乎被歐美廠商壟斷，國內在高性能工藝設備上幾乎是“零覆蓋”。
我們團隊來自全球頂級半導體設備企業，深知只有提升中國的設備技術和工藝能力，才能讓中國MEMS真正實現從研發到量產的閉環。
Q2
您提到的“產業鏈斷點”，具體在哪些技術節點上表現得最明顯？
A
江灣世紀： 瓶頸主要集中在核心工藝的Know-how上。比如在壓電MEMS所需的PZT薄膜沉積、紅外傳感器需要的VOx薄膜制備、以及硅光芯片的精密刻蝕。以紅外和硅光為例，這些領域對設備的精度和重復性要求極高，過去中國廠商在這些高性能設備上完全沒有話語權。
江灣世紀通過打造“1+2+3+4+5”的核心業務，正是為了在這些尚未被國產廠商覆蓋的領域實現“零的突破”。
Q3
您公司研發的核心設備，主要應用于MEMS哪些器件的制備過程？
A
江灣世紀：我們的三大產品線精準覆蓋關鍵工藝需求：VHF/XeF?干法釋放刻蝕設備可對 SiO?、Si 等多類犧牲層材料刻蝕，適配 MEMS 器件及 3nm 以下 GAAFET 先進制程；壓電薄膜沉積設備采用濺射技術沉積高質量 PZT、AlN 等薄膜；4合1QVD氣相沉積設備集成四種沉積技術。產品主要應用在MEMS傳感器、光學器件、RF/5G、先進封裝、生物醫療、量子器件等行業。
Q4
針對技術壁壘，江灣世紀目前取得了哪些關鍵的技術創新？
A
江灣世紀： 我們致力于通過工藝設備的創新帶動產業突破：
VHF釋放刻蝕：針對MEMS結構釋放，我們推出了國內首臺量產級VHF干法刻蝕設備，解決了濕法工藝易粘連、良率低的頑疾，現已交付頭部客戶量產。
高性能薄膜沉積：布局了用于壓電MEMS的PVD設備以及用于紅外傳感的IBD設備。特別是針對紅外VOx薄膜，我們不僅提供設備，還提供能顯著降低電阻率波動的成熟工藝方案。
4合1QVD設備：針對未來更復雜的納米級器件，研發了國內唯一的4合1設計設備，兼容SAM、MVD、ALD等多種工藝，助力提升國產設備的綜合工藝能力。
Q5
如何看待MEMS中高端產品技術的發展方向？
A
江灣世紀： 我們的目標是成為“超越摩爾”領域不可或缺的特色工藝設備商。
深耕異質集成：隨著AI和具身智能的發展，MEMS與ASIC、光電芯片的異質集成將成為主流，我們將持續優化設備以支持這種復雜的合封需求。
拓展高價值賽道：在鞏固MEMS優勢的同時，加速在硅光、先進封裝等領域的滲透。
強化工藝交付：我們不只是賣機器，更是輸出“工藝方案”。通過與國內Fab-light模式廠商的深度協作，我們要徹底終結中國高性能MEMS設備依賴進口的歷史。
江灣世紀（蘇州）半導體科技有限公司即將邀請作為China MEMS 2026 第七屆中國MEMS制造大會核心工藝特邀演講嘉賓，發表刻蝕&沉積技術領域的前沿報告。
公司介紹
江灣世紀（蘇州）半導體科技有限公司成立于2025年9月，是一家專注半導體特色工藝設備國產化的高科技企業。公司核心團隊深耕行業20余年，均來自臺積電、GF等頭部晶圓廠及國際一線設備商，掌握VHF刻蝕、壓電薄膜濺射沉積等核心技術，是國內首個突破相關領域技術壁壘的團隊。
主營三大產品線，覆蓋VHF/XeF?干法釋放刻蝕設備、壓電薄膜沉積設備及4合1QVD氣相沉積設備，適配MEMS器件、3nm以下先進制程及先進封裝領域。
