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7月11日,國(guó)內(nèi)刻蝕設(shè)備和MOCVD設(shè)備頭部企業(yè)中微公司(中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司)發(fā)布公告宣布,在針對(duì)美國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備公司Lam Research(泛林集團(tuán),臺(tái)灣注冊(cè)稱為科林研發(fā),大陸注冊(cè)也稱為泛林半導(dǎo)體)提起的侵犯商業(yè)秘密案中,贏得二審勝訴(國(guó)內(nèi)訴訟程序?yàn)槎徑K審制)。
中微公司表示,2010年12月向上海市第一中級(jí)人民法院就科林研發(fā)侵犯公司商業(yè)秘密案提起一審訴訟并于2017年3月贏得一審訴訟。之后,中微公司為保護(hù)與捍衛(wèi)自身權(quán)益進(jìn)行了長(zhǎng)達(dá)6年的斗爭(zhēng),并取得終審勝利。
“在上海市高級(jí)人民法院2023年6月30日的終審判決中,法院命令科林研發(fā)銷毀其非法獲取的與中微公司等離子刻蝕機(jī)有關(guān)的一份技術(shù)文件和兩張照片。法院還禁止科林研發(fā)及科林研發(fā)的兩名個(gè)人被告披露、使用或允許他人使用中微公司的專有的技術(shù)秘密。法院還命令科林研發(fā)為其侵犯商業(yè)秘密向中微公司支付賠償金和法律費(fèi)用。”

據(jù)了解,中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司由曾在泛林和應(yīng)用材料公司任職的尹志堯2004年回國(guó)創(chuàng)立,目前是一家國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備龍頭上市公司,主要有刻蝕設(shè)備和MOCVD設(shè)備(薄膜沉積設(shè)備)兩大核心產(chǎn)品,據(jù)Gartner數(shù)據(jù),在2020年全球干法刻蝕設(shè)備廠商市場(chǎng)中,中微公司市場(chǎng)份額占比為1.37%(泛林占比46.7%、東京電子占比25.6%、應(yīng)用材料16.96%,這三家合計(jì)占90.24%),2020年中國(guó)大陸刻蝕設(shè)備廠商市場(chǎng)中,中微公司市場(chǎng)份額則為20%(僅次于泛林),目前已進(jìn)入臺(tái)積電、中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ)、聯(lián)電、格羅方德等海內(nèi)外晶圓廠中。
據(jù)中微2022年年報(bào)顯示,其等離子體刻蝕設(shè)備已應(yīng)用在國(guó)際一線客戶從 65 納米到 14 納米、7 納米和 5 納米及其他先進(jìn)的集成電路加工制造生產(chǎn)線及先進(jìn)封裝生產(chǎn)線;公司用于氮化鎵基 LED 外延生產(chǎn)的 MOCVD 設(shè)備,自 2017年起已成為氮化鎵(GaN)基 LED 市場(chǎng)份額最大的 MOCVD 設(shè)備供應(yīng)商。
而包括中微公司2019年科創(chuàng)板上市在內(nèi)的公開(kāi)資料顯示,此次中微公司與泛林的糾紛最早源于2009年1月,當(dāng)時(shí),泛林集團(tuán)在臺(tái)灣對(duì)中微提起兩項(xiàng)專利侵權(quán)訴訟,泛林稱中微公司型號(hào)為Primo D-RIE的等離子體蝕刻機(jī)侵害它的臺(tái)灣專利 TW136706“電漿反應(yīng)器中之多孔的電漿密封環(huán)”和TW126873“于電漿處理室中大量消除未局限電漿之聚焦環(huán)配置”,請(qǐng)求禁止中微制造銷售使用相關(guān)侵權(quán)產(chǎn)品,后以2012年泛林兩項(xiàng)發(fā)明專利全部被無(wú)效、泛林上訴被駁回而告一段落。
2010 年12 月,中微以科林及其大陸境內(nèi)子公司泛林半導(dǎo)體、LIAO DANIEL JEEN-LONG(廖振隆)、Hsiao Wei Chang(張校維)、Rajinda Phindsa(賴金達(dá)·芬得薩)(五被告)侵犯中微商業(yè)秘密為由,向上海市第一中級(jí)人民法院提起訴訟,請(qǐng)求判令五被告禁止使用高端電漿刻蝕設(shè)備的技術(shù)信息(“相關(guān)商業(yè)秘密”),停止侵權(quán),銷毀所有含有相關(guān)商業(yè)秘密的信息及其載體(含相關(guān)培訓(xùn)材料、照片),并賠償經(jīng)濟(jì)損失 5,000 萬(wàn)元并承擔(dān)中微有限因訴訟發(fā)生的合理費(fèi)用 91 萬(wàn)余元。
2017年3月,上海市第一中級(jí)人民法院判決科林立即銷毀其持有的涉案電漿密封環(huán)照片,禁止科林、Hsiao Wei Chang(張校維)、Rajinda Phindsa(賴金達(dá)·芬得薩)披露、使用或者允許其他使用中微有限的技術(shù)秘密,判令科林賠償中微有限訴訟相關(guān)支出 90 萬(wàn)元,并駁回中微關(guān)于科林停止侵權(quán)、 銷毀其取得的培訓(xùn)資料、賠償研發(fā)費(fèi)用等其余訴訟請(qǐng)求,后2017年4月中微向上海市高級(jí)人民法院繼續(xù)提起上訴,請(qǐng)求糾正一審認(rèn)定的錯(cuò)誤事實(shí),撤銷一審判決,改判支持中微有限一審的全部訴訟請(qǐng)求,科林則向上海市高級(jí)人民法院提起上訴,要求撤銷一審的部分判決,判令由中微有限承擔(dān)本案一、二審全部訴訟費(fèi)用及一審鑒定費(fèi)用等。
而此次中微披露的2023年6月的二審判令中,上海市高級(jí)人民法院最終判令科林研發(fā)為其侵犯商業(yè)秘密向中微公司支付賠償金和法律費(fèi)用。
除了與泛林的糾紛外,早在2007年10月,應(yīng)用材料就曾在美國(guó)加州一家聯(lián)邦法院院以商業(yè)秘密侵權(quán)為由對(duì)中微提起訴訟,中微與應(yīng)用材料的訴訟最終以2010年1月雙方簽署和解協(xié)議和平解決;此外,2017年4月,維易科(VECO)也曾對(duì)中微的的基片托盤供應(yīng)商SGL提起專利侵權(quán),最終也以2018年2月以中微、維易科和零部件供應(yīng)商SGL三家宣布和解而結(jié)束所有糾紛。
中微董事長(zhǎng)尹志堯也曾在2020年對(duì)外演進(jìn)中透露,中微創(chuàng)立十幾年來(lái)與美國(guó)3家設(shè)備公司打了4場(chǎng)專利官司,其中3次是被美國(guó)設(shè)備公司起訴,1次是中微起訴美國(guó)公司,最終中微贏了2場(chǎng),和解2場(chǎng),無(wú)一敗績(jī)。
而這背后,無(wú)疑與中微公司的技術(shù)儲(chǔ)備相關(guān)聯(lián),據(jù)中微公司2022年年報(bào)數(shù)據(jù)顯示,截至2022年12月31日,中微公司已申請(qǐng)2,259項(xiàng)專利,其中發(fā)明專利1,938項(xiàng);已獲授權(quán)專利1,266項(xiàng),其中發(fā)明專利1,097項(xiàng)。
有觀點(diǎn)認(rèn)為,中微自2007年起經(jīng)歷多起訴訟,尤其起初幾年中微產(chǎn)品還未正式進(jìn)入商業(yè)銷售階段,這種訴訟更像是企業(yè)間的一種商業(yè)競(jìng)爭(zhēng)策略。
值得一提的是,根據(jù)The Information Network在SeekingAlpha發(fā)布的報(bào)告顯示,三家與泛林集團(tuán)(Lam)直接競(jìng)爭(zhēng)的中國(guó)大陸公司中(中微公司AMEC、盛美上海ACM、拓荊科技Piotech),2021年泛林雖然占據(jù)刻蝕設(shè)備市場(chǎng) 47%的份額,占據(jù)清潔設(shè)備市場(chǎng) 13% 的份額,占據(jù)薄膜沉積設(shè)備PECVD市場(chǎng) 28% 的份額,但泛林2022年收入增速同比增長(zhǎng)為12.9%,低于刻蝕設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手中微12.9%、清潔設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手盛美上海77.3%、薄膜沉積設(shè)備PECVD拓荊科技77.3%的增速,這表明泛林相應(yīng)的份額受到了侵蝕。

此外,中國(guó)四家半導(dǎo)體設(shè)備廠商(中微、盛美上海、拓荊科技、華峰測(cè)控)2022年收入平均增速為69.4%,接近于非中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備廠商11.8%增長(zhǎng)率的近6倍,表明中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備廠商雖然收入低于非中國(guó)同行,但正在獲得更多的市場(chǎng)份額。

END.
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