10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司10月13日發布新聞稿，開始銷售芯片生產設備 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于復雜光刻技術的方案，可以制造 5 nm 芯片。
佳能表示這套生產設備的工作原理和行業領導者 ASML 不同，并非光刻，而更類似于印刷，沒有利用圖像投影的原理將集成電路的微觀結構轉移到硅晶圓上。
這套設備可以應用于最小 14 平方毫米的硅晶圓，從而可以生產相當于 5nm 工藝的芯片。
納米壓印光刻（紫外納米壓印）與光學光刻對比，圖源：佳能官網，果殼硬科技編譯
圖源：日經中文網
佳能表示會繼續改進和發展這套系統，未來有望用于生產 2nm 芯片。
納米印刷（Nanoprinted lithography）通常被認為是光學光刻的低成本替代品，SK 海力士和鎧俠等存儲芯片制造商過去曾嘗試過使用。鎧俠此前進行過測試，不過潛在客戶提出投訴，認為產品缺陷率較高，最后選擇放棄。
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本文源自：IT之家
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