一種新型光刻技術，突破EUV極限！

據報道，初創公司Lace Lithography ?AS(挪威卑爾根)正在開發一種光刻技術，該技術使用向表面發射的原子來定義特征，其分辨率超出了極紫外光刻技術的極限。

Lace Litho 所稱的 BEUV 理論上可以實現更精細的特征，支持晶體管的持續小型化并延伸摩爾定律。

該公司由卑爾根大學首席執行官 Bodil Holst 教授和首席技術官 Adria Salvador Palau 于2023 年7月共同創立，后者在卑爾根大學獲得博士學位，但目前在西班牙巴塞羅那運營。

傳統的 EUV 系統使用13.5nm波長的光，通過一系列反射鏡和掩模在晶圓上形成圖案。原子光刻技術能夠實現直接無掩模圖案化，其分辨率甚至小于受波長限制的 EUV 系統所能達到的分辨率。

該公司在其網站上聲稱：“通過使用原子代替光，我們為芯片制造商提供了領先當前技術15年的功能，而且成本更低、能耗更低。”

Salvador Palau 和 Holst 教授共同撰寫了一篇發表在《物理評論A》上的論文，題為《利用中性氦原子進行真實尺寸表面映射》。該論文詳細介紹了立體氦顯微鏡的實現和操作。

FabouLACE 是一個由歐盟資助的項目，旨在開發基于色散力掩模的氦原子光刻技術，其預算為250萬歐元，由歐洲創新委員會提供。該項目啟動日期為 2023年12月1日，將持續到2026年11月30日。

FabouLACE 采用亞穩態原子和基于色散力的掩模，可實現 2 納米工藝。歐盟委員會表示，Lace 光刻技術已獲授權在2031年前將該技術推向市場。與此同時，該技術的性能將由 IMEC 研究機構進行監測和驗證。NanoLACE 是歐洲早期的一個研究項目，于2024 年12 月31日結束。該項目于2019年啟動，已獲得 336 萬歐元的資助，其預算為 365 萬歐元。

Lace Lithography 于2023年7月籌集了約 450,000 歐元的種子輪融資，由 Runa Capital、Vsquared Ventures、Future Ventures、歐洲創新委員會、挪威創新局和挪威研究委員會提供支持。