
碳化硅 SiC MOSFET 功率器件原生體二極管反向恢復電荷 Qrr 高溫劣化難題,面向變換器高效率應用場景,現存兩大關鍵器件痛點:
1.高溫下體二極管反向恢復電荷Qrr大幅上升溫度升高時,SiC MOSFET自帶體二極管反向恢復特性惡化,反向恢復電荷變高;
外接獨立續流二極管:增加器件數量、占用 PCB 面積、提升成本;
同步整流方案:性能受死區時間限制,適用場景受限;
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Soitec SmartSiC? 改性碳化硅襯底技術

1. 底層核心工藝:適配 SiC 的 SmartCut?智能剝離技術
采用雙層晶圓架構制備新型工程化 SiC 襯底:
單晶 SiC 源片(高晶體質量外延層);
超高電導率多晶 SiC 承載襯底; 通過 SmartCut?剝離轉移工藝,單晶外延層可實現源片重復利用(最多 10 次復用),批量制造高性價比、低阻的SmartSiC?工程襯底。
2. 器件物理優化機理


襯底內部嵌入少數載流子陷阱,抑制反向恢復過程中少數載流子積累,直接降低體二極管Qrr;
襯底采用超低電阻率設計,抵消少子壽命降低帶來的導通損耗惡化,打破傳統工藝固有的性能權衡關系;
整套方案兼容現有 SiC 芯片光刻掩模版、標準制造工藝流程,無需大幅改動產線。
3. 器件適配范圍
已在 650V 平面型、1200V 溝槽型 SiC MOSFET,以及 3.3kV 高壓大功率 SiC 器件完成驗證。
三、SmartSiC?襯底方案優勢體現在哪里?



(二)可靠性與應用優勢
雙極退化耐受能力更強,功率循環可靠性提升;
無需額外外接二極管,縮小整機功率模塊 / PCB 體積,輕量化設計;
兼容全部現有 SiC 功率器件制造工藝與芯片設計,產線改造成本低。
(三)制造、供應鏈與綠色低碳優勢
供應鏈靈活可控:單晶源片可 10 次重復利用,大幅降低單晶 SiC 襯底耗材依賴,緩解 SiC 單晶供給瓶頸;
低碳環保:襯底生產階段二氧化碳足跡降至傳統方案 1/4,降低芯片制造碳排放;
大批量量產能力:成熟 SmartCut?工藝支撐大規模商業化生產,適配功率半導體量產需求。
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