

相關成果以Enhancing the sensitivity of nitrogen vacancy color-center ensemble sensors using one-dimensional photonic crystals為題發表在光學領域權威期刊《Photonics Research》。論文作者為2024級楊云鵬博士、張森助理研究員,通訊作者為哈工大航天學院朱嘉琦教授、劉康教授、代兵教授。
本文亮點
1.通過在金剛石NV色心系綜樣品表面沉積TiO2/SiO2交替介質膜形成的一維光子晶體,極大地提升了NV色心的熒光收集效率;
2.一維光子晶體較寬的光子帶隙使得泵浦激光二次激發了NV色心周圍的雜質N原子到共有化狀態,改善了NV色心周圍的局部電場環境;
3.制備一維光子晶體后,金剛石NV色心ODMR光譜的半高寬減半,相干時間T2*從209 ns延長至841 ns。
圖文解析
本研究先采用時域有限差分(FDTD)法,模擬不同周期的 TiO?/SiO?交替介質膜結構對金剛石 NV - 色心零聲子線(637 nm)附近反射率產生的影響,結果如圖 1(a)所示,其中光子帶隙的中心波長為 637 nm(即樣品 1)。研究發現,當 TiO?/SiO?交替介質膜的周期達到 6 個時,反射率已接近 100%,形成了較為理想的光子帶隙。
為了進一步增強 NV?的 ZPL 及其聲子邊帶的熒光,同時抑制 NV?的熒光以降低熒光噪聲,本研究將光子帶隙的中心波長從 637 nm 紅移至 697 nm(即樣品 2),相關情況如圖 1(b)所示。

圖1 光子帶隙中心波長為 (a) 637 nm和(b)697 nm的不同周期TiO2/SiO2介電薄膜的金剛石透射率模擬曲線
如圖2(a)所示,為在金剛石表面制備一維光子晶體后的SEM圖;圖2(b)為樣品1和2表面制備一維光子晶體前后的透過率曲線圖;圖2(c)為TiO2的XRD表征,衍射峰表明制備的TiO2為銳鈦礦相;圖2(d)為為SiO2的XRD表征,衍射波包表明制備的SiO2為非晶。

圖2 (a)TiO2/SiO2交替介電薄膜的縱截面SEM表征;(b)金剛石樣品1和2表面制備一維光子晶體前后的透過率曲線圖;(c)金剛石表面TiO2介電膜的XRD衍射圖;(d)金剛石表面SiO2介電膜的XRD衍射圖
圖3 (a)、(b)分別為金剛石樣品1和樣品2表面制備一維光子晶體前后的PL光譜圖,由于金剛石NV色心的熒光主要集中在NV-的聲子邊帶700 nm處,所以光子帶隙中心波長為697 nm時,熒光增強效果更明顯。為了進一步研究由TiO2和SiO2組成的一維光子晶體對金剛石NV色心熒光強度的影響,通過掃描樣品2中NV0中心的ZPL和聲子邊帶(573-578 nm)以及NV?中心的ZPL和聲子邊帶(636-640 nm)進行PL積分映射。如圖3(c)所示,NV0色心的熒光強度在處理后顯示出較小的變化。然而,圖3(d)表明處理后NV?色心的熒光強度明顯增強。

圖3 (a)光子帶隙中心波長為637nm時,處理前后NV色心熒光的增強對比圖;(b)光子帶隙中心波長為697nm時,處理前后NV色心熒光的增強對比圖;(c)光子帶隙中心波長為697nm時,NV0ZPL的熒光Mapping對比圖;(d)光子帶隙中心波長為697 nm時,NV-ZPL的熒光Mapping對比圖
使用ODMR系統測量樣品2中NV色心制備一維光子晶體前后的量子相干特性。如圖4(a)所示,擬合洛倫茲線的ODMR譜顯示,處理后線的半峰全寬 (FWHM)從30.6 MHz降低到16.4 MHz,幾乎減半。圖6(b)表明,使用Ramsey 序列測量的退相干時間,從209 ns增加到841 ns。

圖4 (a)處理前后NV的ODMR光譜圖(用洛倫茲函數進行了擬合;(b)處理前后NV的不均勻自旋弛豫時間
如圖5所示,本研究認為光子晶體反射的激光激發了NV周圍的雜質電子,改善了NV色心周圍的電場環境,降低了雜質電子與NV色心電子自旋耦合,從而導致相干時間的延長。

圖5 金剛石中NV-色心附近雜質N原子的激發過程示意圖,插圖表示NV-能級的變化,黑線表示沒有光子晶體的能級,紅線表示有光子晶體的能級
總結與展望

來源:紅外薄膜與晶體