自從集成電路發明以后，人類的電子信息技術開始騰飛，60年多年來，在摩爾定律的指導下，半導體集成電路的高速發展徹底改變了電子產品。以計算機為例，1946年誕生的世界第一臺數字計算機重30噸，占地約140平方米。而現在一顆指甲大小的芯片其處理能力已經堪比大型計算機。
實際上，集成電路的發展與其制造工藝─——光刻技術的進步密不可分。光刻技術是利用光化學反應原理和化學、物理刻蝕方法將掩模板上的圖案傳遞到晶圓的工藝技術。光刻的原理起源于印刷技術中的照相制版，是在一個平面上加工形成微圖形。光刻技術按曝光光源主要分為光學光刻和粒子束光刻(常見的粒子束光刻主要有X射線、電子束和離子束光刻等)。其中光學光刻是目前最主要的光刻技術,在今后幾年內其主流地位仍然不可動搖。
光刻技術的進步使得器件的特征尺寸不斷減小，芯片的集成度和性能不斷提高。在摩爾定律的引領下,光學光刻技術經歷了接觸/接近、等倍投影、縮小步進投影、步進掃描投影等曝光方式的變革。曝光光源的波長由436納米（G線）、365納米(Ⅰ線)，發展到248納米(KrF)，再到193納米( ArF)再到32 ~16 納米的極紫外光。技術節點從1978年的1.5微米、1微米、0.5微米、90納米、45納米......一直到目前的3納米。集成電路的發展始終隨著光學光刻技術的不斷創新向前推進。
光刻機（也稱光刻系統）是光刻技術的關鍵裝備,其構成主要包括光刻光源、均勻照明系統、投影物鏡系統、機械及控制系統(包括工件臺、掩膜臺、硅片傳輸系統等)。其中光刻光源是光刻機的核心部分。隨著集成電路器件尺寸的不斷縮小，芯片集成度和運算速度的不斷提高，對光刻技術曝光分辨率也提出更高的要求。
嘉賓介紹
01、分享嘉賓：王致人
資深半導體行業投資人。中歐國際工商學院EMBA，美國波士頓學院（BC）金融碩士，超過20年產業研究與證券投資經歷，曾任美國國際集團（AIG）權益投資部經理，匯添富基金國際投資副總監，現任上海一家私募基金管理合伙人，深耕半導體晶圓制造與設備領域。具備美國特許金融分析師（CFA）、財務風險經理人（FRM）與中國基金業協會注冊基金經理等資質，也是國際光學工程學會（SPIE）、中國電源學會會員。
02、主持人：張國斌
電子創新網創始人兼CEO，西安電子科技大學電子工程專業畢業，半導體領域知名KOL。有多年的半導體媒體內容與運營經驗，撰寫過大量產業分析文章。（微信號：18676786761）
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