近日,國務院總理李強簽署第842號國務院令,公布修訂后的《集成電路布圖設計保護條例》(以下簡稱《條例》),自2026年10月15日起施行。這是該條例自2001年頒布以來25年來的首次全面修訂,標志著我國集成電路知識產權保護制度邁入新階段。

此次修訂最引人注目的突破,是將保護范圍從傳統電子集成電路擴展至集成光子、量子等功能的集成電路布圖設計。
國家工業信息安全發展研究中心知識產權所黃蘊華指出,當前傳統集成電路晶體管制程已趨近工藝與物理邊界,光子、量子等顛覆性技術不斷涌現,推動集成電路邁入以新架構、新機理、新材料、新器件為競爭主線的后摩爾時代。我國"十五五"規劃明確提出要推進存算一體、三維集成、光電融合等技術突破應用。新修訂的《條例》及時回應技術發展前沿,將"集成光子、量子等功能的集成電路的布圖設計"納入保護范圍,正是對集成電路技術發展的準確把脈與積極回應。
自2022年起,我國含有光子、量子器件的集成電路布圖設計登記申請數量開始增多,2024年后呈現出規模申報的趨勢。可以預見,修訂后的《條例》將與時代同頻共振,進一步發揮集成電路布圖設計專有權的保護優勢,激勵創新主體設計熱情。
獨創性聲明制度
本次修訂的另一大亮點是增加了"獨創性聲明"要求。中國社會科學院法學研究所李順德解釋道,集成電路布圖設計的"獨創性"是獲準登記、取得法律保護的實體要件,但實踐中很難通過申請登記程序具體指明、限定"獨創性"的全部必要信息,導致其內涵及外延模糊不清,判定成本高昂。

修訂后的《條例》要求申請人在登記時提交獨創性聲明,指明布圖設計具有獨創性的設計區域、設計要點以及相應功能。這一制度將抽象的"獨創性"判斷要件轉化為可審查、可舉證的書面文件,申請登記后存入官方檔案,成為判斷布圖設計是否具備獨創性的法定關鍵書證。
李順德認為,獨創性聲明制度使權利邊界更加清晰,在保護權利人合法權益的同時,更好地平衡了布圖設計權利人與社會公眾之間的利益。雖然在申請前端增加了少量撰寫成本,但可在確權、維權、運用等后端環節大幅降本增效,最終實現社會總體成本的顯著下降。
故意侵權最高賠5倍,第三方可直接挑戰"問題專利"
在加強專有權保護方面,修訂后的《條例》引入了懲罰性賠償制度。侵權賠償額按照權利人受到的實際損失或者侵權人獲得的利益確定;難以確定的,參照許可使用費的倍數合理確定。對故意侵犯布圖設計專有權、情節嚴重的,可以在上述方法確定數額的1倍以上5倍以下確定賠償數額。
清華大學法學院崔國斌指出,登記的布圖設計通常包含較多獨創性細節,修訂后的《條例》在強化登記申請文件要求和確定專有權保護范圍方面作出系列修改,使得布圖設計的獨創性部分與修訂前相比更加容易查證。權利人在證明侵權人存在主觀故意且情節嚴重的情況下,懲罰性賠償可對侵權人構成現實威懾。
修訂前的《條例》對布圖設計獲準登記后發現不符合規定的撤銷程序僅限于國家知識產權局依職權啟動,實踐中第三方僅可提出撤銷建議。修訂后的《條例》引入了依第三方請求啟動撤銷登記的程序,任何人發現登記不符合規定的,可以請求國務院知識產權行政部門撤銷布圖設計登記。
崔國斌認為,這一程序與專利權無效宣告程序十分相似。在布圖設計侵權訴訟中,被告不應直接提出登記應被撤銷的抗辯,而應通過單獨的行政程序撤銷布圖設計登記,法院應推定布圖設計登記有效,然后作出是否侵權的決定。
提取營業利潤5%獎勵創作者
為激勵布圖設計創作和應用,修訂后的《條例》新增規定,法人或者非法人組織應當依照《促進科技成果轉化法》和國家有關規定,對符合條件的人員給予合理的獎勵和報酬。
崔國斌解釋,修訂后的《條例》直接適用《促進科技成果轉化法》和國家有關規定,采用約定優先原則,允許單位與設計人員約定獎勵和報酬的方式、數額和時限。未約定的,如果是自行實施或者與他人合作實施,成功投產后連續3至5年,每年提取不低于營業利潤的5%給予獎勵和報酬。
電子版本不得隨意查閱
實踐中,申請人多選擇以電子申請方式提交電子版本的復制件或圖樣,存在泄露布圖設計相關信息的擔憂。修訂后的《條例》配套完善了保密要求,明確除國家機關依法履職需要外,任何人不得查閱或者復制布圖設計的復制件或者圖樣的電子版本;同時對國務院知識產權行政部門工作人員及有關人員、代理機構泄露布圖設計未公開內容應當承擔相應的法律責任作出規定。
修訂后的《條例》強調申請布圖設計登記和行使布圖設計專有權應當遵循誠實信用原則,不得濫用布圖設計專有權損害國家利益、社會公共利益或者他人合法權益。濫用布圖設計專有權、排除或者限制競爭、構成壟斷行為的,依照《中華人民共和國反壟斷法》處理。
反歧視條款:對等回應國際限制
《條例》第五十三條明確規定,任何國家或者地區在集成電路布圖設計保護方面對中華人民共和國采取歧視性的禁止、限制或者其他類似措施的,中華人民共和國可以根據實際情況對有關國家或者地區采取相應的措施。這一條款為應對國際技術封鎖和歧視性政策提供了法律工具。
司法部、國家知識產權局負責人表示,下一步將重點做好三方面工作:一是加大宣傳解讀力度,針對《條例》專業性較強的特點,采取多種形式做好解讀、宣傳和培訓;二是抓緊完善配套制度,統籌推進配套部門規章、規范性文件修改工作;三是切實抓好貫徹實施,認真落實《條例》規定,強化集成電路布圖設計保護和運用。